【6月4日 AFP】日中両政府は、知的財産権の侵害や商標の盗用に関する対策を協議する年次会合を設置することで合意した。関係筋が4日、明らかにした。

　日本企業はこれまで、中国の工場が映画DVDやアパレル製品、香水、電化製品にいたる海賊版や模倣品を製造していることに抗議してきたが、このほど両政府は合同のワーキングチームを設置し、知的財産権に関する問題の解決に取り組むことで合意した。日本からは警察幹部や経済産業省高官が加わり、年内に初会合を開く。

　合同チーム設置の覚書は7日、都内で両国の経済関係閣僚が一堂に会す「日中ハイレベル経済対話」の際に、二階俊博（Toshihiro Nikai）経済産業相と陳徳銘（Chen Deming）中国商務相が交わす。

　同対話は、中国側代表団を率いる王岐山（Wang Qishan）副首相と、日本側を率いる中曽根弘文（Hirofumi Nakasone）外相が共同議長を務める。(c)AFP